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沉积用等离子体
大气压等离子体纳米涂布及沉积
无需真空环境，在大气压下进行涂布、沉积。
特点
1. 在大气压下，达到真空等离子体的品质。
– In-line process
– 涂布速度快（~ 100mm/s）
– 高均匀涂膜
– 涂膜厚度可调
应用范围
1. 研究/开发/生产试产品
– NANO / micro imprint lithography
– Ink Jet printing ( LCD, OLED, LED, Solar cell )
– MEMS
– Optic device
– Fuel cell / solar cell
– TFT
– Bio MEMS
